スパッタリングターゲット

光学デバイス用スパッタリングターゲット

高生産性、高信頼性を実現した光学膜用ターゲット。

製品一覧表

型番 酸素欠損型 五酸化ニオブ(Nb2O5)ターゲット 酸素欠損型酸化チタン(TiO2)ターゲット
比抵抗(Ω・㎝) <0.01 ※DCスパッタが可能 <0.1 ※DCスパッタが可能
密度比(%) 99≦
型番 多結晶シリコン(Si)ターゲット
構造 多結晶
比抵抗(Ω・㎝)
低抵抗タイプ ≦0.02
高抵抗タイプ 1~3
型番 アルミ(Al)ターゲット チタン(Ti)ターゲット
材質 アルミ(Al) チタン(Ti)
純度(%) 99.9995 純度5N5 99.995 純度4N5
型番 単結晶シリコン(Si)ターゲット
構造 単結晶
比抵抗(Ω・㎝) ≦0.02
サイズ(mm) 各種形状対応可能
型番 ニオブ(Nb)ターゲット クロム(Cr)ターゲット
純度(%) 99.9
サイズ(mm) 各種形状対応可能
型番 炭化ケイ素系(SixC)ターゲット
純度(%) ≧99
比抵抗(Ω・㎝) ≦0.1