オープンイノベーション

S113

共同開発

インプリント原盤、インプリントフィルム

ナノメートル（nm）からマイクロメートル（μm）サイズの微細構造体の設計、およびインプリント形成のための原盤設計

N111

技術指導、共同開発、技術ライセンス

無機材料のナノ結晶製法

無機のナノ結晶を大量生産する製法を募集いたします。

受付終了

指定の技術領域の研究をしている研究機関、研究テーマをサポートします。
応募の詳細については、「研究サポートプログラム」ページをご覧ください。
募集期間：2020年9月7日～2020年10月16日 受付は終了しました。
サポート期間：2021年4月1日～2022年3月31日（1年間）