スパッタリングターゲット

光学デバイス用スパッタリングターゲット

高生産性、高信頼性を実現した光学膜用ターゲット。

  • 型番
    酸素欠損型 五酸化ニオブ(Nb2O5)ターゲット
  • 特長
    • 酸化物ターゲットの低抵抗化により、DCスパッタでのハイレートスパッタリング（酸素リアクティブスパッタ比約2.5倍）を実現。
    • 独自のホットプレス技術により、均質で高密度なターゲットを実現。
    • バッキングプレートとの高いボンディング率により、安定した冷却効率を実現。

製品一覧表

仕様

型番 酸素欠損型 五酸化ニオブ(Nb2O5)ターゲット
比抵抗（Ω・㎝） ＜0.01　※DCスパッタが可能
密度比（%） 99≦

使用例

高屈折率膜形成用

特性・試験データ

1. 成膜速度試験

試験条件

スパッタ電源パワー：DC 5.1W/cm2
ターゲットサイズ：φ50mm
T/S間距離：80mm
プロセスガス：Ar + O2 =100sccm
ガス圧：0.24Pa
基板：B270(Schott)
到達真空圧：～10 -5 Pa

試験結果
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2.酸素分圧依存性試験

試験条件

スパッタ電源パワー：DC 5.1W/cm2
ターゲットサイズ：φ50mm
T/S間距離：80mm
プロセスガス：Ar + O2 =100sccm
ガス圧：0.24Pa
基板：B270(Schott)
到達真空圧：～10 -5 Pa

試験結果
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  • ※1.5%以上の酸素分圧で屈折率 n=2.3以上 （at550nm）T
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  • ※3.0%以上の酸素分圧で消衰係数　k≦5x10-3以下

ご注意

この特性データは、当社の実施した評価結果に基づくものですが、お客さまのご使用時の製品特性を保証するものではありません。ご使用の際は、実際に使用される装置および被着材での評価結果に基づき、使用条件を十分ご検討の上、ご使用いただきますようお願いいたします。

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製品情報

光半導体

よくあるご質問
（製品）

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