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スパッタリングターゲット
光学デバイス用スパッタリングターゲット
高生産性、高信頼性を実現した光学膜用ターゲット。
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- 型番
- 酸素欠損型 五酸化ニオブ(Nb2O5)ターゲット
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- 特長
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- 酸化物ターゲットの低抵抗化により、DCスパッタでのハイレートスパッタリング(酸素リアクティブスパッタ比約2.5倍)を実現。
- 独自のホットプレス技術により、均質で高密度なターゲットを実現。
- バッキングプレートとの高いボンディング率により、安定した冷却効率を実現。

仕様
型番 | 酸素欠損型 五酸化ニオブ(Nb2O5)ターゲット |
---|---|
比抵抗(Ω・㎝) | <0.01 ※DCスパッタが可能 |
密度比(%) | 99≦ |
高屈折率膜形成用
1. 成膜速度試験
試験条件
スパッタ電源パワー:DC 5.1W/cm2
ターゲットサイズ:φ50mm
T/S間距離:80mm
プロセスガス:Ar + O2 =100sccm
ガス圧:0.24Pa
基板:B270(Schott)
到達真空圧:~10 -5 Pa
試験結果

2.酸素分圧依存性試験
試験条件
スパッタ電源パワー:DC 5.1W/cm2
ターゲットサイズ:φ50mm
T/S間距離:80mm
プロセスガス:Ar + O2 =100sccm
ガス圧:0.24Pa
基板:B270(Schott)
到達真空圧:~10 -5 Pa
試験結果

- ※1.5%以上の酸素分圧で屈折率 n=2.3以上 (at550nm)T

- ※3.0%以上の酸素分圧で消衰係数 k≦5x10-3以下
ご注意
この特性データは、当社の実施した評価結果に基づくものですが、お客さまのご使用時の製品特性を保証するものではありません。ご使用の際は、実際に使用される装置および被着材での評価結果に基づき、使用条件を十分ご検討の上、ご使用いただきますようお願いいたします。