スパッタリングターゲット

光学デバイス用スパッタリングターゲット

高生産性、高信頼性を実現した光学膜用ターゲット。

  • 型番
    アルミ(Al)ターゲット
  • 特長
    • 通常のバッキングプレート付きに加え、ハイパワースパッタリングに対応した一体型をラインアップ
    • バッキングプレートとの高いボンディング率により、安定した冷却効率を実現。

製品一覧表

仕様

型番 アルミ(Al)ターゲット
材質 アルミ(Al)
純度(%) 99.9995 純度5N5

HUD凹面鏡、平面鏡反射膜

1.含有不純物規格値

試験条件

試験方法:C=グロー放電質量分析(GDMS)

試験結果
含有不純物規格値 型番 アルミ(Al)ターゲット
元素(ppm) 最大値 試験方法
Ag ≦0.50 C
B ≦0.80
Ca ≦0.70
Cr ≦0.50
Cu ≦1.50
Fe ≦0.70
Ga ≦1.00
K ≦0.40
Li ≦0.40
Mg ≦1.50
Mn ≦0.20
Mo ≦0.50
Na ≦0.40
Ni ≦1.00
P ≦3.00
Si ≦1.00
Ti ≦0.50
Zn ≦0.70
U(ppb) ≦1.00
Th(ppb) ≦1.00

ご注意

この特性データは、当社の実施した評価結果に基づくものですが、お客さまのご使用時の製品特性を保証するものではありません。ご使用の際は、実際に使用される装置および被着材での評価結果に基づき、使用条件を十分ご検討の上、ご使用いただきますようお願いいたします。

製品一覧表