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スパッタリングターゲット
光ディスクメディア用スパッタリングターゲット
光ディスクメディアの各機能層形成に使われる各種ターゲット。
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- 型番
- 酸化物ターゲット
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- 特長
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- 相変化光ディスクなどの光磁気記録材料のサプライヤーとして、長年培ったノウハウと高い実績を持ち、独自のホットプレス技術により、均質で高密度なターゲットを実現。
- DCスパッタにより、高スパッタレートを実現するＮbOxターゲット（リアクティブスパッタ比約2.5倍）やTiO2ターゲット（リアクティブスパッタ比約2倍）。
- バッキングプレートとの高いボンディング率により、安定した冷却効率を実現。
仕様
| 型番 | 酸化物ターゲット | |
|---|---|---|
| 材質 | 酸素欠損型 五酸化ニオブ(Nb2O5)ターゲット | 酸素欠損型 酸化チタン(TiO2)ターゲット |
| 比抵抗（Ω・㎝） | ＜0.01 ※DCスパッタが可能 | ＜0.1 ※DCスパッタが可能 |
| 密度比（%） | 99≦ | 99≦ |
| サイズ(mm) | φ149/φ200 | φ149/φ200 |
バリア膜、誘電体膜
1. 酸素欠損型 五酸化ニオブ(Nb2O5)ターゲットの成膜速度試験
試験条件
スパッタ電源パワー：DC 5.1W/cm2
ターゲットサイズ：φ50mm
T/S間距離：80mm
プロセスガス：Ar + O2 =100sccm
ガス圧：0.24Pa
基板：B270(Schott)
到達真空圧：～10-5 Pa
試験結果
2.酸素欠損型 五酸化ニオブ(Nb2O5)ターゲットの成膜速度試験
試験条件
スパッタ電源パワー：DC 5.1W/cm2
ターゲットサイズ：φ50mm
T/S間距離：80mm
プロセスガス：Ar + O2 =100sccm
ガス圧：0.24Pa
基板：B270(Schott)
到達真空圧：～10-5 Pa
試験結果
- ※1.5%以上の酸素分圧で屈折率 n=2.3以上 （at550nm）
- ※3.0%以上の酸素分圧で消衰係数 k≦5x10-3以下
3. 酸素欠損型 酸化チタン(TiO2)ターゲットの成膜速度試験
試験条件
スパッタ電源パワー：DC 5.1W/cm2
ターゲットサイズ：φ50mm
T/S間距離：80mm
プロセスガス：Ar + O2 =100sccm
ガス圧：0.24Pa
基板：B270(Schott)
到達真空圧：～10-5 Pa
試験結果
4.酸素欠損型 酸化チタン(TiO2)ターゲットの酸素分圧依存性試験
試料作成条件
スパッタ電源パワー：DC 5.1W/cm2
ターゲットサイズ：φ50mm
T/S間距離：80mm
プロセスガス：Ar + O2 =100sccm
ガス圧：0.24Pa
基板：B270(Schott)
到達真空圧：～10-5 Pa
試験結果
- ※1.5%以上の酸素分圧で屈折率 n=2.3以上 （at550nm）
- ※3.0%以上の酸素分圧で消衰係数 k≦5x10-3以下
ご注意
この特性データは、当社の実施した評価結果に基づくものですが、お客さまのご使用時の製品特性を保証するものではありません。ご使用の際は、実際に使用される装置および被着材での評価結果に基づき、使用条件を十分ご検討の上、ご使用いただきますようお願いいたします。
