Sputtern

Sputtertargets für optische Geräte

Optische Filmtargets, die eine hohe Produktivität und Zuverlässigkeit erreichen.

Produktpalette

Produktname Sauerstoffarmes Niobpentoxid (Nb2O5)-Target Sauerstoffarmes Titanoxid (TiO2)-Target
Spezifischer Widerstand (Ω・cm) <0,01 *DC-Sputtern ist möglich <0,1 *DC-Sputtern ist möglich
Dichteverhältnis (%) 99≦
Produktname Polykristallines Silizium (Si)-Target
Struktur Polykristallin
Spezifischer Widerstand (Ω・cm)
 Typ mit geringem Widerstand ≦0.02
Hochbeständiger Typ 1～3
Produktname Aluminium (Al)-Target Titan (Ti)-Ziel
Material Aluminium (Al) Titan (Ti)
Reinheit(%) 99,9995 Reinheit 5N5 99,995 Reinheit 4N5
Produktname Einkristallines Silizium (Si)-Target
Struktur Einkristall
Spezifischer Widerstand (Ω・cm) ≦0.02
Größe (mm) Verschiedene Formen erhältlich
Produktname Niob (Nb)-Ziel Chrom (Cr)-Ziel
Reinheit(%) 99.9
Größe (mm) Verschiedene Formen erhältlich
Produktname Siliziumkarbid (SixC)-Target
Reinheit(%) ≧99
Spezifischer Widerstand (Ω・cm) ≦0.1

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