濺射

光碟介質濺鍍靶材

用於形成光盤介質各功能層的各種靶材。

產品系列

產品名稱 氧化物靶材 記錄膠片目標
材料 缺氧五氧化二鈮（Nb2O5）
目標		 缺氧二氧化鈦（TiO2）
目標		 -
電阻率（Ω・cm） <0.01 *可進行直流濺射 <0.1 *可進行直流濺射 -
密度比（%） 99≦ 99≦ 90≦
尺寸（毫米） φ149/φ200 φ149/φ200 φ200

產品

光半導體

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