溅射

光学器件溅射靶材

实现高生产率、高可靠性的光学薄膜目标。

产品列表

型号 缺氧五氧化二铌(Nb2O5)靶材 缺氧二氧化钛(TiO2靶材
电阻率(Ω・cm) <0.01 *可进行直流溅射 <0.1 *可进行直流溅射
密度比(%) 99≦
型号 多晶硅(Si)靶材
结构 多晶硅
电阻率(Ω・cm)
低电阻型 ≦0.02
高阻型 1~3
型号 铝(Al)靶 钛(Ti)靶
材质 铝(Al) 钛(Ti)
纯度(%) 纯度99.9995 5N5 纯度99.995 4N5
型号 单晶硅(Si)靶材
结构 单晶
电阻率(Ω・cm) ≦0.02
尺寸(mm) 有多种形状可供选择
型号 铌(Nb)靶材 铬(Cr)靶材
纯度(%) 99.9
尺寸(mm) 有多种形状可供选择
型号 碳化硅(SixC)靶材
纯度(%) ≧99
电阻率(Ω・cm) ≦0.1