溅射

光盘介质溅射靶材

用于形成光盘介质各功能层的各种靶材。

产品列表

型号 氧化物靶材 记录胶片目标
材质 缺氧五氧化二铌（Nb2O5）
目标		 缺氧二氧化钛（TiO2）
目标		 -
电阻率（Ω・cm） <0.01 *可进行直流溅射 <0.1 *可进行直流溅射 -
密度比（%） 99≦ 99≦ 90≦
尺寸(mm) φ149/φ200 φ149/φ200 φ200

产品信息

光半导体

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