关于产品
的咨询
溅射
光学器件溅射靶材
实现高生产率、高可靠性的光学薄膜目标。
-
- 型号
- 碳化硅（SixC）靶材
-
- 产品特性
-
- 与背板的高结合率保证了稳定的冷却效率。
- 用于反应溅射时，与硅靶相比，电弧和裂纹明显减少，确保稳定使用直至其使用寿命结束。
规格
| 型号 | 碳化硅（SixC）靶材 |
|---|---|
| 纯度（％） | ≧99 |
| 电阻率（Ω・cm） | ≦0.1 |
用于SiO2薄膜沉积的 SixC 靶材
SixC靶材沉积SiO2薄膜折射率
参考：SixC靶材的成膜速度（ULVAC螺旋溅射设备）
<使用SixC靶材与Si靶材后的外观比较>
目标尺寸：127mm x 686mm x 6mm
注意
该特性数据是基于本公司的评价结果得出的，不能作为客户使用时的产品特性保证。使用时，请根据实际使用装置及被贴材料上的评价结果，在充分研究使用条件的基础上使用。
