關於我們
產品
濺射
光学組件濺鍍靶材
實現高生產率、高可靠性的光學薄膜目標。
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- 產品名稱
- 碳化矽（SixC）靶材
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- 特徵
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- 與背板的高結合率保證了穩定的冷卻效率。
- 用於反應濺鍍時，與矽靶相比，電弧和裂縫明顯減少，確保穩定使用至其使用壽命結束。
規格
| 產品名稱 | 碳化矽（SixC）靶材 |
|---|---|
| 純度（％） | ≧99 |
| 電阻率（Ω・cm） | ≦0.1 |
用於SiO2薄膜沉積的 SixC 靶材
SixC靶材沉積SiO2薄膜折射率
參考：SixC靶材的成膜速度（ULVAC螺旋濺鍍設備）
<使用SixC靶材與Si靶材後的外觀比較>
目標尺寸：127mm x 686mm x 6mm
警告
關於特性資料的說明 - 本頁所述產品特性資料是基於本公司的評估結果。這並不保證產品特性符合您的使用環境。使用前，請根據實際使用的設備和基材的評估數據，確認使用條件。
