스퍼터링

광학 디바이스 용 스퍼터링 타겟

높은 생산성과 높은 신뢰성을 달성하는 광학 필름 타겟입니다.

품번

산소결핍성 이산화티타늄(TiO₂) 표적
특징
- 산화물 타겟의 저항을 낮춤으로써, DC 스퍼터링을 통해 고속 스퍼터링(산소 반응성 스퍼터링의 약 2배)이 달성됩니다.
- 당사의 독특한 열간 프레싱 기술을 통해 균질하고 고밀도의 타겟을 만들 수 있습니다.
- 백킹 플레이트와의 높은 접합률로 안정적인 냉각 효율이 보장됩니다.

사양

품번	산소결핍성 이산화티타늄(TiO₂) 표적
비저항(Ω・cm)	<0.1 *DC 스퍼터링이 가능합니다
밀도 비율(%)	99≦

사용 예

고굴절률 필름 형성을 위해

특성•시험 데이터

1. 필름 형성 속도 시험

시험 조건

스퍼터링 전원 공급 장치: DC 5.1W/ ^cm2
타겟 크기 : φ50mm
T/S 거리: 80mm
공정 가스: Ar + O ₂ = 100 sccm
가스 압력: 0.24Pa
회로기판 : B270(Schott)
최대 진공 압력: ~ ^10-5 Pa