스퍼터링

광 디스크 미디어용 스퍼터링 타겟

광 디스크 미디어의 각 기능 계층을 형성하는 데 사용되는 다양한 타겟입니다.

  • 품번
    산화물 타겟
  • 특징
    • 위상변화 광디스크 등 자기광학 기록소재 공급업체로서, 당사는 오랜 세월에 걸쳐 축적된 노하우와 검증된 실적을 보유하고 있으며, 당사의 독특한 열간프레싱 기술을 통해 균일하고 고밀도의 타겟을 제작할 수 있습니다.
    • DC 스퍼터링은 NbOx 타겟(반응성 스퍼터링보다 약 2.5배 높음) 및 TiO2 타겟(반응성 스퍼터링보다 약 2배 높음)을 사용하여 높은 스퍼터링 속도를 허용합니다.
    • 백킹 플레이트와의 높은 접합률로 안정적인 냉각 효율이 보장됩니다.

제품 일람표

사양

품번 산화물 타겟
재질 산소 결핍 니오븀 펜톡사이드(Nb2O5) 표적 산소결핍성 이산화티타늄(TiO2) 표적
비저항(Ω・cm) <0.01 *DC 스퍼터링 가능 <0.1 *DC 스퍼터링이 가능합니다
밀도 비율(%) 99≦ 99≦
크기(mm) φ149/φ200 φ149/φ200
*다른 사이즈가 필요하시면 문의해 주세요.

배리어 필름, 유전체 필름

1. 산소결핍 니오븀 펜톡사이드(Nb2O5) 타겟의 증착속도 시험

시험 조건

스퍼터링 전원 공급 장치: DC 5.1W/ cm2
타겟 크기 : φ50mm
T/S 거리: 80mm
공정 가스: Ar + O 2 = 100 sccm
가스 압력: 0.24Pa
회로기판 : B270(Schott)
최대 진공 압력:
~ 10-5 Pa

시험 결과
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2. 산소결핍 니오븀 펜톡사이드(Nb2O5) 타겟의 증착속도 시험

시험 조건

스퍼터링 전원 공급 장치: DC 5.1W/ cm2
타겟 크기 : φ50mm
T/S 거리: 80mm
공정 가스: Ar + O 2 = 100 sccm
가스 압력: 0.24Pa
회로기판 : B270(Schott)
최대 진공 압력: ~ 10-5 Pa

시험 결과
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  • *산소분압 1.5% 이상(550nm에서)에서 굴절률 n=2.3 이상
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  • *산소분압 3.0% 이상에서 소광계수 k≦ 5x10-3 이하

3. 산소결핍성 이산화티타늄(TiO2) 타겟의 피막형성속도 시험

시험 조건

스퍼터링 전원 공급 장치: DC 5.1W/ cm2
타겟 크기 : φ50mm
T/S 거리: 80mm
공정 가스: Ar + O 2 = 100 sccm
가스 압력: 0.24Pa
회로기판 : B270(Schott)
최대 진공 압력: ~ 10-5 Pa

시험 결과
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4. 산소결핍성 이산화티타늄(TiO2) 타겟의 산소분압 의존성 시험

시료 제작 조건

스퍼터링 전원 공급 장치: DC 5.1W/ cm2
타겟 크기 : φ50mm
T/S 거리: 80mm
공정 가스: Ar + O 2 = 100 sccm
가스 압력: 0.24Pa
회로기판 : B270(Schott)
최대 진공 압력: ~ 10-5 Pa

시험 결과
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  • *산소분압 1.5% 이상(550nm에서)에서 굴절률 n=2.3 이상
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  • *산소분압 3.0% 이상에서 소광계수 k≦ 5x10-3 이하

주의

이 특성 데이터등은 당사에서 실시한 평가 결과에 기초한 자료이지만, 고객이 사용하실 때의 제품 특성을 보증하는 것은 아닙니다. 사용하실 때는 실제로 사용하실 설비 및 피착재를 이용한 평가 결과에 기초하여 사용 조건을 충분히 검토한 후 사용하시기 바랍니다.

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