스퍼터링 타겟

광학 디바이스용 스퍼터링 타겟

고생산성과 고신뢰성을 실현한 광학막용 스퍼터링 타겟.

  • 품번
    알루미늄(Al) 스퍼터링 타겟
  • 특징
    • 일반 백킹 플레이트뿐만 아니라 고전력 스퍼터링에 대응한 일체형을 라인업.
    • Backing plate와의 높은 본딩율에 의해 안정된 냉각 효율을 실현.

제품 일람표

사양

품번 알루미늄(Al) 스퍼터링 타겟
재질 알루미늄(Al)
순도(%) 99.9995 순도5N5

HUD 오목면 미러, 평면 미러 반사막

1.함유 불순물 규격치

시험 조건

시험 방법:C=Glow Discharge Mass Spectrometry(GDMS)

시험 결과
함유 불순물 규격치 품번 알루미늄(Al) 스퍼터링 타겟
원소(ppm) 최대치 시험 방법
Ag ≦0.50 C
B ≦0.80
Ca ≦0.70
Cr ≦0.50
Cu ≦1.50
Fe ≦0.70
Ga ≦1.00
K ≦0.40
Li ≦0.40
Mg ≦1.50
Mn ≦0.20
Mo ≦0.50
Na ≦0.40
Ni ≦1.00
P ≦3.00
Si ≦1.00
Ti ≦0.50
Zn ≦0.70
U(ppb) ≦1.00
Th(ppb) ≦1.00

주의

이 특성 데이터등은 당사에서 실시한 평가 결과에 기초한 자료이지만, 고객이 사용하실 때의 제품 특성을 보증하는 것은 아닙니다. 사용하실 때는 실제로 사용하실 설비 및 피착재를 이용한 평가 결과에 기초하여 사용 조건을 충분히 검토한 후 사용하시기 바랍니다.

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