스퍼터링 타겟

광학 디바이스용 스퍼터링 타겟

고생산성과 고신뢰성을 실현한 광학막용 스퍼터링 타겟.

  • 품번
    산소 결손형 산화티탄(TiO2) 스퍼터링 타겟
  • 특징
    • 산화물 타겟의 저저항화에 의해 DC 스퍼터를 이용한 높은 스퍼터링 비율(산소 리액티브 스퍼터비 약 2배)을 실현.
    • 독자적인 핫 프레스 기술에 의해 균질의 고밀도 타겟을 실현.
    • Backing plate 와의 높은 본딩률에 의해 안정된 냉각 효율을 실현.

제품 일람표

사양

품번 산소 결손형 산화티탄(TiO2) 스퍼터링 타겟
비저항 (Ω・㎝) <0.1 ※DC 스퍼터가 가능
밀도비 (%) 99≦

고굴절율 막 형성용

1.성막 속도 시험

시험 조건

스퍼터 전원 파워:DC 5.1W/cm2
타겟 크기:φ50mm
T/S 간 거리:80mm
공정 가스:Ar + O2 =100sccm
가스압:0.24Pa
기판:B270(Schott)
도달 진공압:~10-5 Pa

시험 결과
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2.산소 분압 의존성 시험

시료 제작 조건

스퍼터 전원 파워:DC 5.1W/cm2
타겟 크기:φ50mm
T/S 간 거리:80mm
공정 가스:Ar + O2 =100sccm
가스압:0.24Pa
기판:B270(Schott)
도달 진공압:~10-5 Pa

시험 결과
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  • ※1.5% 이상의 산소 분압에서 굴절율 n=2.3 이상 (at550nm)
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  • ※3.0% 이상의 산소 분압에서 소쇠 계수 k≦5x10-3이하

주의

이 특성 데이터등은 당사에서 실시한 평가 결과에 기초한 자료이지만, 고객이 사용하실 때의 제품 특성을 보증하는 것은 아닙니다. 사용하실 때는 실제로 사용하실 설비 및 피착재를 이용한 평가 결과에 기초하여 사용 조건을 충분히 검토한 후 사용하시기 바랍니다.

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