溅射靶材

光盘介质用溅射靶材

用以形成光盘介质各功能层的各种靶材。

产品列表

型号 氧化物靶材 记录膜靶材
材质 缺氧型 五氧化二铌(Nb2O5)靶材 缺氧型 氧化钛(TiO2)靶材 -
电阻率(Ω・㎝) <0.01 ※可DC溅射 <0.1 ※可DC溅射 -
密度比(%) 99≦ 99≦ 90≦
尺寸(mm) φ149/φ200 φ149/φ200 φ200