溅射靶材

光学仪器用溅射靶材

拥有高生产率和高可靠性的光学膜用靶材。

  • 型号
    缺氧型 五氧化二铌(Nb2O5)靶材
  • 产品特性
    • 通过氧化物靶材的低电阻化,实现了DC溅射下的高比率溅射(氧反应溅射比率约为2.5倍)。
    • 通过独创的热压技术,使靶材具有均质和高密度特性。
    • 可以较高的粘合率与背板相结合,实现稳定的冷却效率。

产品列表

规格

型号 缺氧型 五氧化二铌(Nb2O5)靶材
电阻率(Ω・㎝) <0.01 ※可DC溅射
密度比(%) 99≦

用于形成高折射率薄膜

1. 成膜速度试验

试验条件

溅射电源功率:DC 5.1W/cm2
靶材尺寸:φ50mm
T/S间距:80mm
工艺气体:Ar + O2 =100sccm
气体压力:0.24Pa
电路板:B270(Schott)
极限真空压力:~10-5 Pa

试验结果
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2.氧分压依存度测试

试验条件

溅射电源功率:DC 5.1W/cm2
靶材尺寸:φ50mm
T/S间距:80mm
工艺气体:Ar + O2 =100sccm
气体压力:0.24Pa
电路板:B270(Schott)
极限真空压力:~10 -5 Pa

试验结果
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  • ※在1.5%以上的氧分压下,折射率为 n=2.3以上 (at550nm)
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  • ※在3.0%以上的氧分压下,消光系数 k≦5x10-3以下

注意

该特性数据是基于本公司的评价结果得出的,并不是对客户使用时的产品特性作出的保证。使用时,请根据实际使用装置及被贴材料上的评价结果,在充分研究使用条件的基础上使用。

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